2017洁净技术讲座I

环境解决方案业务发展经理。爱德华兹 Co.(part of Atlas Copco) 英国布里斯托尔大学的客座教授中学化学

迈克在 1982 年获得了博士电气工程在曼彻斯特大学 （英国）。与飞利浦，开始他的职业生涯，最初在英国 R D 实验室及随后在晶圆厂在奈梅亨，荷兰，迈克曾在半导体业务。他加入爱德华兹 21 年前收到了总部设在英国的 Oem 剑桥文书、 VSW 和 VG 半导体在后续市场营销角色。在 2 年前开始他当前的角色之前，他曾担任各种技术和市场营销职位。迈克有无数篇发表的文章和他的名字将专利、 半标准委员会共同主席、 税务局参加，是英国 PFC"专家"对气专委和撰写了关于即将半导体制造手册中的真空和环境问题的章节。
Mike在1982年于曼彻斯特大学获得了电机工程博士学位。 他在英国飞利浦的R D实验室开始了他的职业生涯，随后到了位于荷兰Nijmegen的实验室做有关半导体方面的工作。 21年前他加入Edwards公司。 之前，他曾在英国的一些OEM公司做有关营销方面的工作,包括 Cambridge仪器,VSW以及VG半导体公司。 在Edwards公司,他两年前开始现在的职位,之前他做过很多技术及营销的职位。 他发表很多的文章以及专利. 他担任一SEMI(国际半导体设备暨材料协会)标准委员会的共同主席、他也加入了IRDS，他是英国IPCC (Intergovernmental Panel on Climate Change，政府间气候变化专门委员会) 有关PFC方面的”专家”，他也撰写了即将出版的”半导体制造手册”中有关真空以及环境议题方面的章节。

♣ 講題主题︰ 修订的气专委缺省 PFC 排放因子

IPCC（联合国政府间气候变化专门委员会）于 2006 年发布了温室气体 (GHG) 排放标准默认值（2006 IPCC 国家温室气体清单指南，http://www.ipcc-nggip.iges.or.jp/public/2006gl/) 为全面的来源，从农业到工业部门。在第 26 次会议的工作队主席团 （专责组） （28 — — 29 8 月 2014 年，渥太华） 认为，要保持 2006 年气专委指南的科学有效性，作出若干改进，可能需要，考虑到科学和其他已经完全成熟，自 2006 年以来的技术进步。例如湿地发出更多的甲烷比以前假设的铝冶炼可能释放出 PFC 气体和阳极事件之间的时期。为此，工作队 （工作队国家温室气体清单，TFI） 已审查所有可用的数据，以便在 2019 年出版一份新的文件。
新的报告将 2006年文档 — — 和具体不从根本上新文档 — — 的更新，只有在重大的新数据已经来到光将更改。范围的会议举行提名为作者由 2016年年底在卧龙岗在 2016 年 4 月和 8 月，在明斯克表的内容随访。2017 年是数据收集、 报告的撰写，是 2018 年和 2019年是联合国审批 (IPCC49) 和发布。

正在考虑以下四个领域︰ 全氟化碳 (PFCs)，从土壤、 土地代表性和废气排放来源不明淹没土地。特别感兴趣的半导体产业将审议 2006年气专委排放因素和更近的 EPA 因素和其他潜在的 PFC 排放源，如制造的 PFC 气体本身的差异。我会考虑台湾的半导体行业的潜在影响。
2006失落警监会公布了溫室氣體（温室气体）的排放標準.(http://www.ipcc-nggip.iges.or.jp/public/2006gl/)，这个标准排放含盖多数的领域，从建筑业到工业方面都包含了。 在第26届的Meeting of Task Force Bureau(TFB)(2014年8月28-29日，渥太华) 中提到，为了保持2006年警监会指针的科学有效性，以及考虑到自2006年来科技以及技术的进步，一些改进是必要的。 举例来说，湿地比原先假设排放的更多甲烷，以及在冶炼铝时的阳极事件可能会排放PFC气体。 考虑到这一点，项目组(Task Force on National Greenhouse Gas Inventories, TFI)已经审查了所有现有数据，以期在2019年出版一份新文件。
新的文件将会是2006年文件的升级版， 不是一个新的文件，只修重要的新数据。2016年4月在Australia之Wollongong市举行了范围界定会议，8月在苏俄的明斯克讨论目录，并在2016年年底提交了作者提名。 ”警监会 温室气体（温室气体）排放标准”出版期程如下:2017年是数据收集年，2018年是报告撰写年，2019年是联合国批准（IPCC49）和出版年。
此次演讲中, 会谈到四个领域:尚未被识别的全氟化碳源(PFCs)、土壤的PFC排放量(具代表性的土壤以及泛滥地的的土壤)， 2006年IPCC排放标准与更新的EPA排放标准之差异, 和其它潜在的PFC排放源之，像是PFC气体本身的制造过程, 这些皆为半导体工业特别感兴趣的。 台湾半导体产业之PFC潜在影响因子亦将说明。

• 台大高科技厂房设施研究中心 (High-Tech Facility Research Center NTU)

国立台北科技大学 胡石政教授 ( Prof. SC Hu , NTUT )