2015厂务技术研讨会暨中华洁净技术协会第五届第三次会员大会

今日台湾的经济成长超过六成的贡献来自于电子高科技工业,而其中大部份高价值产品大多需要高度受控制洁净的环境下生产。 另一方面,近年兴起的生技医药产业,已被认为是国内产业发展的下一颗明星,而生技医药产业同样地也需要洁净生产环境。 因此,拥有先进成熟的洁净环境控制以及相关公用设施技术,将有助于电子高科技工业、生技医药产业或其它需要类似技术产业稳健的成长与发展。

为促进科技工业、生医产业或其它相关产业设施工程技术发表、交流与推广,特别举办本活动,并且以「高科技厂厂务的机遇与挑战」为本次研讨会的中心议题。 期待藉由本活动进行相关技术研讨、成果发表与经验分享,提供一个业界及学界洁净环境控制的交流平台,促成国内相关产业能力普遍提升至国际水平。

日期:
2015年12月8日(二) 08:30~18:00

费用:
新台币300元整(餐点费用)
中华洁净技术协会会员、高科技厂房设施研究中心同仁免费

缴费方式:
缴费通知单
※报名完成后,缴费单会寄送至您报名填写的e-mail,请持缴费单至便利商店、台银分行或ATM等等方式进行缴费。

地点:
国立台北科技大学 综合科馆B1第二演讲厅
台北市忠孝东路三段1号
※建议由高铁台北站转捷运板南线(蓝线)忠孝新生站四号出口
※自行开车者可将车辆停放于建国高架桥下之收费停车场

演讲者:
张陆满 (国立台湾大学土木系教授)
Dr. SJ Yook (韩国汉阳大学教授)
黄柏玮 (DOW 宝玑系统股份有限公司)
吴益铭 (DAS 香港商达思系统(股)公司台湾分公司)
张文荣 (Dow Chemicals台湾陶氏化学股份有限公司)

主办:
国立台北科技大学洁净技术研发中心
协办:
中华洁净技术协会
国立台湾大学土木系高科技厂房设施研究中心

演讲纲要

08:30-09:00 报 到
09:00-09:20 长官致词
主持人:国立台北科技大学洁净技术研发中心主任 胡石政博士
09:20-10:00 主讲人:张陆满教授
国立台湾大学土木系教授/高科技厂房设施研究中心主任
讲 题:高科技厂厂务的机遇与挑战
10:00-10:20 休息
10:20~11:20 主讲人:Dr. SJ Yook-韩国汉阳大学教授
Professor Yook为一国际电子组件微污染控制领域知名学者,
曾任职于三星电子半导体部门,负责光罩及晶圆的污染及良率提升。
讲 题:Particle deposition onto wafers in cleanroom airflow
11:20~12:20 主讲人: 黄柏玮 总经理
DOW 宝玑系统股份有限公司
讲 题:气体纯化原理应用与分析
12:20~13:30 午餐
13:30~14:30 主讲人: 吴益铭
DAS 香港商达思系统(股)公司台湾分公司
讲 题:半导体废气处理洁净技术
14:30~15:30 主讲人: 张文荣
Dow Chemicals台湾陶氏化学股份有限公司
讲 题:如何降低水处理系统的操作成本
15:30-16:00 午茶时间/散会
16:00~18:00 中华洁净技术协会会员大会
18:00~ 晚餐

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